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1 DD000000287593A5  [DE] VERFAHREN ZUM ERZEUGEN EINER SCHICHTSTRUKTUR
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2 DD000000275760A1  [DE] VERFAHREN ZUR ANSCHLUSSERZEUGUNG VON BEGRABENEN GEBIETEN
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3 DD000000272167A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERANORDNUNG AUF EINEM SILIZIUMSUBSTRAT
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4 DD000000269944A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HOCHINTEGRIERTEN HALBLEITERANORDNUNG MIT KOMPLEMENTAERER SCHALTUNGSSTRUKTUR
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5 DD000000245301A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON TRANSISTOREN MIT KURZEN KANALLAENGEN
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6 DD000000234125A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG HOCHDOTIERTER GEBIETE UNTER VERWENDUNG VON PHOTOLACKMASKEN
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7 DD000000231165A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SCHICHTSTRUKTUR AUF EINEM HALBLEITERSUBSTRAT
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8 DD000000205288A1  [DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON BEREICHSWEISE UNTERSCHIEDLICH DICKEN DECKSCHICHTEN AUF FESTKOERPERN  
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